Adatto per la produzione di massa di rivestimenti AR.
Caratteristiche:
Uniformità 1.Excellent dal sistema di rotazione del substrato dell'azionamento centrale.
2. Tempo di tatto del rivestimento ridotto raggiunto da prestazioni più elevate nel pompaggio e nel riscaldamento.
Il monitor 3.Optical, la fonte di ioni CC e la fonte di evaporazione del riscaldatore di resistenza possono essere installati opzionalmente.
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Specifiche di Gener-1315
| Dimensione camera |
SUS304, φ1300 mm × 1500 mm (H) |
| Cupola del substrato |
Cupola a quattro sezioni (o φ1200 mm) |
| Max. Velocità di rotazione della cupola |
30 giri al minuto (variabile) |
| Monitor dello spessore della pellicola di cristallo |
XTC/3 plus sensore rotante a 6 punti |
| Fonte di evaporazione |
Una unità di fonte EB |
| Prestazioni |
|
| Pressione finale |
7,0 × 10-5 Pa o inferiore |
| Velocità di pompaggio |
10 min (dalla pressione atmosferica a 3,0 × 10-3 Pa) |
| Max. temperatura di riscaldamento del substrato. |
350 °C |
| Requisiti di utilità |
|
| Impronta |
4500 mm (L) × 6000 mm (D) × 3200 mm (H) |
| Alimentazione elettrica |
3 fasi, 200 V, 50/60 Hz, 80 kVA, ca. |
| Flusso d'acqua minimo |
100 /min |
| Pressione dell'aria |
0,5 - 0,7 MPa |
| Peso |
6500kg, circa. |
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