반도체 제조 핵심 장비: 웨이퍼 그라인딩 머신의 기술적 난점과 혁신 경로
2025-11-13 · 뉴스
I. 반도체 제조의 핵심 장비인웨이퍼 그라인딩 머신의 가공 정밀도는 칩 성능을 직접 결정합니다. 현재 초정밀 지표 달성과 안정성 제어에서 여전히 다중 기술적 병목 현상에 직면해 있으며, 다차원 기술 혁신을 통해 돌파해야 합니다. 초정밀 평면도와 TTV 제어 문제 칩 공정이 7nm 이하로 발전한 이후, 웨이퍼 평면도는 0.3μm 수준에 도달해야 하고, 총 두께 편차(TTV)는 1μm 이내로 제어되어야 합니다. 기존 그라인딩
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