Problemas y soluciones en el pulido de wafers de Ge
1899-12-10 · Noticias
Durante el proceso de pulido de wafers de Ge, debido a las propiedades fisicoquímicas del material mismo (como baja dureza, alta fragilidad, facilidad de oxidación, sensibilidad a la temperatura, etc.), es común que surjan problemas como daños en la super
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