El avance técnico de
Máquinas de Afinamiento de Wafer de Doble Eje debe tomar el control de alta precisión como núcleo, la actualización de estructura del equipo como soporte y la innovación de componentes nucleares y algoritmos como impulso. Se requiere colaboración multilateral para resolver problemas de precisión, estabilidad y compatibilidad de materiales, proporcionando equipo clave para el desarrollo de la industria de semiconductores hacia la reducción de grosor, ligereza y alta densidad.