Основными объектами обработки оборудования являются различные полупроводниковые пластины, охватывающие основные и новые функциональные подложки. Оно подходит для всех размеров пластин от 4 до 12 дюймов и способно выполнять тонкую обработку утончения подложек от обычной толщины до сверхтонкой толщины микронного уровня. Традиционные кремниевые подложки являются базовой категорией обработки. Оно подходит для утончения обратной стороны кремниевых пластин, используемых в логических чипах, запоминающих чипах и дискретных приборах, что эффективно снижает толщину подложек, улучшает теплопроводность и теплоотвод чипов и соответствует требованиям высокоплотных упаковочных технологий.
Для удовлетворения потребностей промышленности третьего поколения полупроводников оборудование позволяет точно обрабатывать широкозонные полупроводниковые пластины из карбида кремния и нитрида галлия. Такие твердые и хрупкие подложки имеют высокую твердость и склонность к образованию сколов по краям. За счет оптимизации эксклюзивных параметров шлифовального процесса и использования прецизионных алмазных шлифовальных кругов оборудование обеспечивает малонапряженное микроудаление материала, сохраняет плоскостность и целостность краев подложек и соответствует высокоточным технологическим стандартам для силовых приборов новой энергетики и радиочастотных приборов.
Одновременно оборудование совместимо с различными оптоэлектронными функциональными кристаллическими подложками, включая арсенид галлия, ниобат лития, танталат лития, сапфир и кварцевые кристаллы, широко применяясь в сферах оптической связи, инфракрасного сенсирования и оптического детектирования. Благодаря высокоточной системе онлайн-измерения толщины погрешность обработки толщины контролируется на микронном уровне, что эффективно предотвращает дефекты, такие как коробление, царапины и повреждения в процессе утончения.
Благодаря широкой адаптивности к различным подложкам и стабильной полностью автоматической обработке
полностью автоматическая машина для утончения пластин удовлетворяет потребностям обработки подложек в множестве областей: потребительская электроника, новая энергетика, оптоэлектроника и высококачественные полупроводники, являясь основным прецизионным оборудованием, соединяющим производство пластин и высокоточную упаковку.
