Керамический полировальный станок CMP является основным оборудованием для точной механической обработки керамики. Качество полировки напрямую определяет качество поверхности и точность обработки керамических изделий. Тип полировальной суспензии и скорость вращения полировального диска являются двумя ключевыми факторами, от которых напрямую зависит эффективность полировки и процент годных изделий. Их влияние на результат полировки следующее.

Тип полировальной суспензии должен соответствовать требованиям полировки керамики. Кислые суспензии обладают высокой эффективностью резания, быстро удаляют выступы и примеси с поверхности керамики, подходят для грубой полировки, но имеют повышенную коррозионную активность; при неправильном выборе могут появиться точечная коррозия и царапины. Щелочные суспензии действуют мягко, подходят для тонкой полировки, снижают шероховатость поверхности и устраняют мелкие царапины, но имеют низкую скорость резания и требуют сочетания с кислыми суспензиями. Размер зерна суспензии также должен быть подобран: 1–3 мкм для грубой полировки и 0,1–0,5 мкм для тонкой, иначе полировка будет неравномерной.

Скорость вращения полировального диска должна точно соответствовать суспензии и этапу полировки. Для грубой полировки требуется 200–350 об/мин в сочетании с кислой суспензией для повышения эффективности. Для тонкой полировки — 100–200 об/мин с щелочной суспензией для снижения повреждений от трения. Слишком высокая скорость вызывает нагрев, окисление и деформацию поверхности, неравномерное распределение суспензии. Слишком низкая скорость приводит к недостаточной полировке, оставляя царапины и неровности.

Таким образом, тип суспензии определяет режущие свойства и точность, а скорость вращения — эффективность и повреждения. Их правильное подбор обеспечивает эффективную и точную полировку.