Geräteimplementierung für die synchron beidseitige Lapping von Lithiumtantalat-Wafern
Lithiumtantalat-Doppelseiten-Lappingmaschine verfügt über eine Doppelplatten-Gegenlapping-Struktur. In einer einzigen Einspannung wird das Wafer beidseits synchron gelappt, wobei der Materialabtrag auf beiden Seiten dynamisch ausgeglichen bleibt. Ausgestattet mit Niedrigspannungs-Druckregelsystem und Hochpräzisions-Planetengetriebe läuft die Platte stabil, die Lappingbahn ist flächendeckend gleichmäßig.
Abgestimmt auf die hartspröden Eigenschaften von Lithiumtantalat-Einkristallen wird die Spannungszufuhr während der Bearbeitung präzise gesteuert. Mikrorisse und Gitterschäden werden wirksam unterdrückt, die intrinsischen piezoelektrischen und optischen Eigenschaften des Materials bleiben vollständig erhalten. Die Maschine kontrolliert Dickentoleranz, Parallelität und Ebenheit des Wafers hochpräzise und stabil. Positionsabweichungen, Waferverformung durch herkömmliches mehrmaliges Wenden beim Lapping werden vollständig vermieden. Es wird eine integrierte Präzisionslappung von Lithiumtantalat-Wafern mit synchroner Doppelseitenbearbeitung, geringer Beschädigung und hoher Genauigkeit realisiert.
