Aluminiumnitrid-Keramik zeichnet sich durch hohe Wärmeleitfähigkeit, starke Isolierung und einen niedrigen Wärmeausdehnungskoeffizienten aus und ist ein zentrales Wärmeabfuhrsubstrat für Halbleiter-Leistungsbauelemente, 5G-HF-Module und IGBT-Module im Bereich erneuerbarer Energien. Das Material ist jedoch hart, spröde und stoßanfällig. Herkömmliche einseitige Schleifverfahren verursachen ungleichmäßige Spannungen, was leicht zu Substratverzug, Kantenausbrüchen, oberflächlichen Mikrorissen und übermäßigen Dickentoleranzen führt. Diese Verfahren erfüllen nicht die mikrongenaue Parallelität und die beschädigungsfreien Bearbeitungsstandards hochwertiger elektronischer Substrate. Die
zweiseitige Schleifmaschine für Aluminiumnitrid ist daher das spezialisierte Schlüsselgerät für die Feinbearbeitung von Aluminiumnitrid-Keramiksubstraten.
Speziell für spröde Aluminiumnitrid-Keramik optimiert, verfügt die Maschine über ein präzises planetarisches System zur synchronen zweiseitigen Schleifbearbeitung. Ober- und Unterschleifscheiben laufen synchron mit gleichmäßiger Geschwindigkeit, sodass Werkstücke auf beiden Seiten gleichmäßig belastet und geschliffen werden. Dadurch werden mechanische Spannungen und Verformungen durch einseitige Druckeinwirkung grundlegend beseitigt. Anders als herkömmliche Metallschleifmaschinen mit großem Materialabtrag arbeitet dieses Gerät mit einem steuerbaren Mikroabtragverfahren. Es entfernt präzise unebene Sinterschichten, Oberflächengrate und Bearbeitungsspuren und vermeidet zuverlässig Sprödbrüche, Delaminationen und Mikrobeschädigungen.
Ausgestattet mit einem hochsteifen, schwingungsgedämpften Maschinenkörper und einem geschlossenen Druckregelsystem verfügt die Anlage über einen extrem geringen Scheibenlaufschlag im Betrieb. Drehzahl, Schleifdruck und Bearbeitungsdauer werden automatisch an Dicke und Härte der Aluminiumnitrid-Substrate angepasst. Spezielle Keramik-Schleifverbrauchsmaterialien und ein Reinigungsfiltersystem verhindern Kratzer durch Fremdpartikel auf der Substratoberfläche. Die bearbeiteten Substrate zeichnen sich durch stabile Ebenheit und Parallelität, minimalen Dickenunterschied zwischen einzelnen Teilen sowie eine gleichmäßige, feine Oberflächenstruktur aus.
Die Maschine kombiniert mehrere Arbeitsgänge – zweiseitiges Nivellieren, präzise Maßkorrektur und Oberflächenhomogenisierung – in einem einzigen Durchgang und erreicht eine weit höhere Bearbeitungseffizienz als herkömmliche einseitige Anlagen. Sie eignet sich sowohl für die Kleinserien-Probenfertigung als auch für die automatisierte Massenproduktion. Die bearbeiteten Aluminiumnitrid-Substrate sind frei von Restspannungen und zeichnen sich durch hohe Präzisionskonsistenz aus, wodurch die Wärmeabfuhr und Betriebsstabilität elektronischer Bauteile verbessert werden. Sie ist weit verbreitet in der Optoelektronik-, Halbleiter- und Präzisionskeramikindustrie für erneuerbare Energien und ein unverzichtbares Gerät für die Präzisionsbearbeitung hochwertiger Aluminiumnitrid-Substrate.
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